El instrumento de haz de iones focalizado (FIB) es casi idéntico al microscopio electrónico de barrido (SEM), pero en lugar de electrones utiliza iones que interactúan con la muestra. Los iones son más pesados que los electrones y pueden expulsar átomos de la superficie de la muestra mediante un proceso de sputtering. El haz de iones puede controlarse con precisión nanométrica, permitiendo que el instrumento FIB modifique directamente la superficie de la muestra para realizar nano-litografía, fresado selectivo y deposición asistida por haz de iones, tomografía 3D, preparación de láminas para TEM, microfabricación y análisis elemental. Nuestro equipo es un Neon40 Crossbeam™ adquirido de Carl Zeiss, equipado con una columna de electrones de emisión de campo, columna de haz de iones de galio y sistema de inyección de gas para deposición y fresado asistidos por gas.