Espectroscopía de fotoelectrones de rayos X en condiciones de presión cercana al ambiente
Espectroscopía de fotoelectrones de rayos X en condiciones de presión cercana al ambiente
El sistema NAP-XPS de SPECS permite medir directamente la influencia del entorno gaseoso sobre la superficie de los materiales, con el objetivo de identificar la reestructuración superficial, el estado químico y la estructura electrónica de los materiales que experimentan cambios críticos según las condiciones operativas. Los sistemas NAP-XPS no requieren condiciones de ultra-alto vacío en el área de análisis. Por ello, es una técnica muy potente en múltiples campos, como la investigación en catálisis, análisis químico superficial a presiones cercanas al ambiente, interfaces sólido-gas o dinámica de procesos químicos, entre otros.
Componentes principales
- Cámara de carga (load lock)
- Cámara de análisis (DeviSim NAP)
- Manipulador especial de 4 ejes UHV con celda NAP-XPS in-situ
- Unidad de control de calentamiento de la muestra EBH 150
- Sistema de manejo de gases
- Analizador de energía hemisférico PHOIBOS 150 EP con detector MCD-9
- Fuente de rayos X XR-50 con ánodo doble (Al, Mg)
- Software SpecsLab Prodigy para adquisición de datos y control de experimentos
Características principales
- Exposición de la muestra a presiones desde UHV hasta 1 mbar
- Calentamiento de la muestra hasta 700 ºC
- Potencia del ánodo de la fuente de rayos X: Al 400 W 15 kV, Mg 300 W 14 kV

Galería
Un breve vídeo time-lapse sobre cómo realizar el “bake-out” del sistema NAP-XPS.
Contacto
Para reservar el equipamiento, póngase en contacto con Xènia García (tecnics.multiescala@upc.edu)
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